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    Examinando por Autor "Huanca Gozme, Evelyn"

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      info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
      Susceptibilidad antibiótica y a metales pesados en Escherichia coli aisladas de aguas residuales del Centro Poblado Alto Puno de la ciudad de Puno
      Huanca Gozme, Evelyn; Pauro Roque, Juan Jose , 2024-07-02 - (Universidad Nacional del Altiplano. Repositorio Institucional - UNAP)
      La presencia de Escherichia coli en aguas residuales del centro poblado Alto Puno, representa contaminación fecal, y poseerían resistencia a antibióticos y metales pesados, siendo potencialmente patógenos al ser humano. El objetivo general fue determinar la susceptibilidad antibiótica y la resistencia a plomo y mercurio en Escherichia coli aisladas de aguas residuales del centro poblado Alto Puno. Se recolectaron 30 muestras de aguas residuales, desde donde se aislaron e identificaron a Escherichia coli en placas Petri con agar EMB y pruebas bioquímicas diferenciales. La susceptibilidad antibiótica se determinó mediante el método de Kirby Bauer, los diámetros de los halos de inhibición se contrastaron con el Manual de Procedimientos para la prueba de Sensibilidad Antimicrobiana (INS, 2002). La resistencia a plomo y mercurio se determinó mediante la concentración mínima inhibitoria (CMI) y bactericida (CMB). Se realizaron pruebas de chi cuadrado y análisis de varianza, con un nivel de confiabilidad del 95 % para determinar la significancia estadística. Los aislamientos de Escherichia coli fueron resistentes en el 33.33 % a cloranfenicol, 40.00 % a trimetoprim – sulfametoxazol, 60.00 % a ampicilina y 6.67 % a ceftriaxona (X2=67.42; gl=8; p<0.0001). Ante el plomo, Escherichia coli presentó promedios de CMI de 6975 mg/l y CMB de 7225 mg/l, y frente al mercurio la CMI y la CMB fueron de 316.67 mg/l. Se concluye que los aislamientos de Escherichia coli de aguas residuales del centro poblado Alto Puno fueron resistentes a cloranfenicol, trimetoprim – sulfametoxazol, ceftriaxona y ampicilina y a mayores concentraciones de plomo que de mercurio.
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